레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 및 그의 응용(RESORCINOL RESIN-BLOCKED ISOCYANATES AND THEIR APPLICATIONS)

(19) 대한민국특허청(KR)
(12) 등록특허공보(B1)
(45) 공고일자 2014년09월11일
(11) 등록번호 10-1428602
(24) 등록일자 2014년08월04일
(51) 국제특허분류(Int. Cl.)
C08G 18/54 (2006.01) C08G 8/28 (2006.01)
C09D 161/12 (2006.01) C09D 175/16 (2006.01)
(21) 출원번호 10-2008-7021606
(22) 출원일자(국제) 2006년11월29일
심사청구일자 2011년11월29일
(85) 번역문제출일자 2008년09월03일
(65) 공개번호 10-2008-0106533
(43) 공개일자 2008년12월08일
(86) 국제출원번호 PCT/US2006/061353
(87) 국제공개번호 WO 2007/106186
국제공개일자 2007년09월20일
(30) 우선권주장
60/779,342 2006년03월03일 미국(US)
(56) 선행기술조사문헌
US3268467 A
(73) 특허권자
인드스펙 케미칼 코포레이션
미국 펜실베니아 16050 페트롤리아 메인 스트리트
133
(72) 발명자
듀라이라지 라지 비.
미국 15146 펜실베니아주 먼로우빌 에지미드 드라
이브 123
제시오노브스키 개리 에이
미국 15237 펜실베이니아주 피츠버그 하우프 드라
이브 333
로렌스 마크 에이.
미국 15068 펜실베이니아주 뉴 켄싱턴 린 앤 드라
이브 277
(74) 대리인
유미특허법인
전체 청구항 수 : 총 27 항 심사관 : 정태광
(54) 발명의 명칭 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 및 그의 응용
(57) 요 약
레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물은 레조르시놀 화합물과 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화
합물간의 반응으로부터 유도된다. 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물은, 고무상 물질 또는 컴파
운드에 대한 고무 보강재의 향상된 접착성과 같은 몇 가지 독특한 성질을 제공할 수 있는 두 가지 이상의 언블록
킹 온도 및/또는 용융 특성을 가질 수 있다. 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물은 향상된 성질을
가진 직물 침지 포뮬레이션 및/또는 고무 조성물에 사용될 수 있다.
대 표 도 - 도2
등록특허 10-1428602
- 1 -
특허청구의 범위
청구항 1
하기 화합물을 포함하는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물:
(a) 식(VI')을 가진 제1 화합물:
및
(b) 식(VII')을 가진 제2 화합물:
상기 식에서, 식(VI') 대 식(VII')의 비는 25:75 내지 75:25이고, X 및 Y는 상이하고, n, m 및 k는 각각 독립
적으로 1 내지 100의 평균을 가진 정수의 분포이고; 식(VI') 및 (VII') 각각의 페닐환 또는 메틸렌기는 치환되
어 있지 않거나 독립적으로 하나 이상의 치환체로 치환되어 있고, 상기 하나 이상의 치환체는 알킬, 아릴, 알카
릴, 사이클로알카릴, 아랄킬, 카르복시, 헤테로사이클릴, 할라이드, 니트로, 하이드록시, 또는 이들의
조합이고,
상기 모든 식의 X 및 Y의 각각은 독립적으로 하기 식 중 하나를 가지는 2가 라디칼임:
(A), (B), (C), (D),
(E), (F), (H), (I), (J) 및
(K).
청구항 2
제1항에 있어서,
식(VIII')을 가진 제3 화합물을 추가로 포함하는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물:
상기 식에서, X 및 Y는 상이하고, x, y 및 z는 각각 독립적으로 1 내지 100의 평균을 가진 정수의 분포이고;
식(VIII')의 페닐환 또는 메틸렌기는 치환되어 있지 않거나 독립적으로 하나 이상의 치환체로 치환되어 있고,
상기 하나 이상의 치환체는 알킬, 아릴, 알카릴, 사이클로알카릴, 아랄킬, 카르복시, 헤테로사이클릴,
등록특허 10-1428602
- 2 -
할라이드, 니트로, 하이드록시, 또는 이들의 조합이며,
상기 X 및 Y의 각각은 독립적으로 하기 식 중 하나를 가지는 2가 라디칼임:
(A), (B), (C), (D),
(E), (F), (H), (I), (J) 및
(K).
청구항 3
2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물과 레조르시놀 수지의 반응으로부터 얻어지는 레조르시놀 수지-블록킹
된 이소시아네이트 조성물로서,
상기 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물의 몰비는 75:25 내지 25:75이고, 상기 2종 이상의 이소시아네이
트 화합물은 식 O=C=N-X-N=C=O 및 O=C=N-Y-N=C=O을 가지며,
여기서, X 및 Y의 각각은 독립적으로 하기 식 중 하나를 가지는 2가 라디칼인, 레조르시놀 수지-블록킹된 이소
시아네이트 조성물:
(A), (B), (C), (D),
(E), (F), (H), (I), (J) 및
(K).
청구항 4
제3항에 있어서,
상기 레조르시놀 수지가 식(V), 식(V') 또는 이들의 조합을 가지는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트
조성물:
등록특허 10-1428602
- 3 -
상기 식에서, n 및 n'은 1 내지 100의 평균을 가진 정수의 분포이고; A, B, A' 및 B'는 각각 독립적으로 말단기
(end group)이고; 식(V) 또는 (V')의 페닐환은 치환되어 있지 않거나 또는 알킬, 아릴, 알카릴,
사이클로알카릴, 아랄킬, 카르복시, 헤테로사이클릴, 할라이드, 니트로, 또는 하이드록시를 포함하는 하나 이상
의 치환체로 치환되어 있고; 식(V) 또는 (V')의 메틸렌기는 치환되어 있지 않거나 또는 알킬, 아릴, 알카릴, 사
이클로알카릴, 아랄킬, 또는 헤테로사이클릴을 포함하는 하나 또는 2개의 치환체로 치환되어 있음.
청구항 5
제4항에 있어서,
A, B, A' 및 B'가 각각 독립적으로 H, 식(V-1) 또는 식(V-2)인 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성
물:
청구항 6
삭제
청구항 7
2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물과 레조르시놀 수지를 반응시키는 단계를 포함하는, 제1항 또는 제3항
에 기재된 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물의 제조 방법으로서,
상기 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물의 몰비는 75:25 내지 25:75이고, 상기 2종 이상의 이소시아네이
트 화합물은 식 O=C=N-X-N=C=O 및 O=C=N-Y-N=C=O을 가지며,
상기 X 및 Y의 각각은 독립적으로 하기 식 중 하나를 가지는 2가 라디칼인,레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아
네이트 조성물의 제조 방법:
(A), (B), (C), (D),
(E), (F), (H), (I), (J) 및
(K).
청구항 8
제7항에 있어서,
등록특허 10-1428602
- 4 -
상기 레조르시놀 수지가 식(V), 식(V') 또는 이들의 조합을 가지는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트
조성물의 제조 방법:
상기 식에서, n 및 n'은 1 내지 100의 평균을 가진 정수의 분포이고; A, B, A' 및 B'는 각각 독립적으로 말단기
이고; 식(V) 또는 (V')의 페닐환은 치환되어 있지 않거나 또는 알킬, 아릴, 알카릴, 사이클로알카릴, 아랄킬,
카르복시, 헤테로사이클릴, 할라이드, 니트로, 또는 하이드록시를 포함하는 하나 이상의 치환체로 치환되어 있
고; 식(V) 또는 (V')의 메틸렌기는 치환되어 있지 않거나 또는 알킬, 아릴, 알카릴, 사이클로알카릴, 아랄킬,
또는 헤테로사이클릴을 포함하는 하나 또는 2개의 치환체로 치환되어 있음.
청구항 9
제7항에 있어서,
상기 반응이 용매의 부재 하에 일어나는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물의 제조 방법.
청구항 10
제7항에 있어서,
상기 반응이 3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥사이드 또는 디부틸틴 디라우레이트로부터 선택되는 촉매의 존재 하
에 일어나는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물의 제조 방법.
청구항 11
삭제
청구항 12
재1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 포함하는, 고무상 물질,
메틸렌 공여체 및 메틸렌 수용체를 포함하는 혼합물을 포함하거나 그로부터 얻을 수 있는 가황가능한
(vulcanizable) 고무 조성물.
청구항 13
제12항에 있어서,
고무 보강재를 추가로 포함하는 가황가능한 고무 조성물.
청구항 14
제13항에 있어서,
상기 고무 보강재가 섬유, 필라멘트, 직물 또는 코드의 형태로 되어 있는 가황가능한 고무 조성물.
청구항 15
제13항에 있어서,
상기 고무 보강재가 폴리에스테르, 폴리아미드, 탄소, 유리, 강철, 폴리벤족사졸 또는 레이온으로 만들어진 것
인 가황가능한 고무 조성물.
청구항 16
제12항에 있어서,
가황제를 추가로 포함하는 가황가능한 고무 조성물.
등록특허 10-1428602
- 5 -
청구항 17
제12항에 있어서,
하나 이상의 첨가제를 추가로 포함하고, 상기 첨가제는 카본 블랙, 산화아연, 실리카, 산화방지제, 스테아레이
트, 가속화제(accelerator), 접착 촉진제, 코발트염, 스테아르산, 충전재, 가소제, 왁스, 가공유, 지연제, 오존
방지제 또는 이들의 조합인 가황가능한 고무 조성물.
청구항 18
제1항의 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 포함하는 고무 보강재 처리용 조성물.
청구항 19
제18항에 있어서,
용매를 추가로 포함하는 고무 보강재 처리용 조성물.
청구항 20
제18항에 있어서,
폴리(비닐 피리딘/부타디엔/스티렌)라텍스를 추가로 포함하는 고무 보강재 처리용 조성물.
청구항 21
제18항에 있어서,
수지 용액을 추가로 포함하는 고무 보강재 처리용 조성물.
청구항 22
제21항에 있어서,
상기 수지 용액이 레조르시놀-포름알데히드 용액인 고무 보강재 처리용 조성물.
청구항 23
제18항에 있어서,
에폭시-함유 화합물, 증점제, 소포제 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 첨가제를 추가로 포함하는 고무 보강
재 처리용 조성물.
청구항 24
제18항의 고무 보강재 처리용 조성물로 처리된 고무상 물질 및 고무 보강재를 포함하는 제조 물품.
청구항 25
제24항에 있어서,
상기 제조 물품이 타이어, 동력 전달 벨트, 컨베이어 벨트, V-벨트, 호스 인쇄 롤, 고무 구두 뒤축, 고무 구두
창, 자동차 바닥 매트, 트럭 흙받이판(mud flap) 또는 볼밀 라이너인 제조 물품.
청구항 26
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물로 코팅된 고무 보강재.
청구항 27
제26항에 있어서, 상기 고무 보강재는 필라멘트, 섬유, 코드 또는 직물인, 고무 보강재.
청구항 28
등록특허 10-1428602
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제18항 내지 제23항 중 어느 한 항의 고무 보강재 처리용 조성물로 처리된 고무 보강재.
청구항 29
제28항에 있어서, 상기 고무 보강재는 필라멘트, 섬유, 코드 또는 직물인, 고무 보강재.
청구항 30
삭제
명 세 서
기 술 분 야
본 발명은 레조르시놀 수지와 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물간의 반응으로부터 유도된 하나 이상의[0001]
반응 생성물을 포함하는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물, 그의 합성 방법 및 응용 방법, 구체
적으로는 고무 컴파운드 포뮬레이션 및 고무 컴파운드에 대한 접착성을 증강시키도록 섬유, 필라멘트, 직물 또
는 코드(cord)를 처리하기 위한 직물 침지 포뮬레이션(dipping formulation)에 사용되는 용도에 관한 것이다.
배 경 기 술
레조르시놀 화합물은 고무 컴파운딩 및 직물 침지 기술을 포함하는 다양한 응용 분야에서 널리 사용되어 왔다.[0002]
고무 컴파운드 포뮬레이션에서, 레조르시놀 수지는 메틸렌 수용체(acceptor)로서 널리 사용되어 왔다. 레조르
시놀 수지는 일반적으로 충분한 접착성을 제공하지만, 새로운 레조르시놀 화합물을 이용함으로써 고무 컴파운드
의 저장 모듈러스(storage modulus) 및 탄젠트 델타(tangent delta)와 같은 동적 성질(dynamic property)을 향
상시키는 것이 여전히 요구되고 있다.
침지 기술은 폴리에스테르(예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)), 폴리아[0003]
미드(예컨대, 나일론 및 아라미드), 탄소 또는 폴리벤족사졸(PBO)로 된 섬유, 필라멘트, 직물 또는 코드와 같은
고무 보강재의 천연 고무 및 합성 고무에 대한 접착성을 증강시키기 위해 고무 및 타이어 산업 전반에 걸쳐 광
범위하게 사용되어 왔다. 폴리에스테르 또는 폴리아미드로 된 섬유에 대한 고무의 접착성을 향상시키기 위해,
침지 포뮬레이션에서 많은 변형이 이루어졌다. 이러한 변형 중에서, 블록킹된 방향족 디이소시아네이트의 첨가
가 고무에 대한 PET의 접착성을 향상시키는 것으로 나타났다. 일반적으로, 블록킹된 디이소시아네이트, 특히
카프로락탐- 및 페놀-블록킹된 디이소시아네이트가 고무 및 타이어 산업에서 널리 사용되었다. 카프로락탐- 및
페놀-블록킹된 디이소시아네이트의 몇 가지 통상적 예는 카프로락탐- 및 페놀-블록킹된 4,4'-디페닐메탄 디이소
시아네이트(4,4'-MDI)이다.
페놀-블록킹된 4,4'-MDI와 같은 페놀-블록킹된 디이소시아네이트의 사용은, 아마도 높은 언블록킹(unblocking)[0004]
온도로 인해 침지 포뮬레이션에서는 제한되어 왔다. 또한, 일반적으로 150℃와 240℃ 범위인 직물-처리 기술의
공정 온도 하에서, 언블록킹 반응은 페놀-블록킹된 방향족 디이소시아네이트로부터 페놀을 생성하고, 따라서 독
성 및 위험성 문제를 야기할 수 있다. 또한, 발생된 페놀은 미반응 상태로 잔존할 수 있어서, 직물 처리기 및
그 밖의 장치에서 부식성 페놀계 분위기를 생성할 수 있다.
카르로락탐-블록킹된 4,4'-MDI(예컨대, EMS-Primid사 제품인 GRILBOND
®
IL-6)와 같은 카프로락탐-블록킹된 디[0005]
이소시아네이트는, 레조르시놀-포름알데히드-라텍스(RFL)를 사용하지 않는 고무 보강재의 이소시아네이트 처리
를 위한 침지 포뮬레이션의 성분으로서; 또는 고무 보강재 처리를 위한 1-단계 및 2-단계 RFL 침지 포뮬레이션
과 같은 다른 침지 포뮬레이션에서의 딥 첨가제(dip additive)로서, 광범위하게 사용되어 왔다. 페놀-블록킹된
4,4'-MDI와 같이, 카프로락탐-블록킹된 4,4'-MDI는 일반적으로 높은 언블록킹 온도를 가진다. 몇몇 경우에, 고
무 컴파운드에 대한 PET 코드의 접착은 페놀- 및 카프로락탐-블록킹된 4,4'-MDI를 함께 혼합하여 RFL 포뮬레이
션에 사용함으로써 증강될 수 있다.
페놀- 및 카프로락탐-블록킹된 디이소시아네이트 이외에도, 레조르시놀 또는 레조르시놀 수지로 블록킹된 4,4'-[0006]
MDI와 같은 디이소시아네이트를 직물 침지 포뮬레이션에 사용할 수 있다. 레조르시놀- 및 레조르시놀 수지-블
록킹된 디이소시아네이트는 침지 포뮬레이션의 성분 또는 첨가제로서 몇 가지 독특한 특성을 제공할 수 있다.
예를 들면, 레조르시놀- 또는 레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아네이트의 언블록킹 반응으로부터 발생된 레
조르시놀은 페놀이나 카프로락탐과 같은 대부분의 다른 블록킹제보다 반응성이 더 크다. 따라서, 레조르시놀-
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또는 레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아네이트는 RFL형 포뮬레이션에서 주된 반응성 성분인 부가적 반응성
레조르시놀 또는 레조르시놀 수지를 제공한다. 또한, 레조르시놀- 또는 레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아
네이트는 침지 포뮬레이션에 존재하는 레조르시놀- 또는 레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아네이트와 에폭시
화합물 사이의 반응을 촉진시킬 수 있는 페놀계 하이드록실기를 말단에 가진다.
전술한 페놀-, 카프로락탐-, 레조르시놀- 또는 레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아네이트는 몇몇 응용에서는[0007]
만족스러운 결과를 제공할 수 있지만, 고무 컴파운드에 대한 여러 가지 합성 섬유 물질의 향상된 접착성과 같은
향상된 성질을 가진 새로운 블록킹된 디이소시아네이트를 타이어, 고무, 기타 산업에 제공하는 것이 여전히 요
구되고 있다.
발명의 상세한 설명
본 발명은 고무상 물질 또는 컴파운드에 대한 고무 보강재의 향상된 접착성과 같은 독특한 성질을 가진 레조르[0008]
시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 개시한다. 일 태양에서, 본 발명은 하기 화합물을 포함하는 레조
르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 개시한다:
(a) 식(VI')을 가진 제1 화합물:[0009]
, 및[0010]
(b) 식(VII')을 가진 제2 화합물:[0011]
[0012]
상기 식에서, X 및 Y는 상이하고, X와 Y는 각각 독립적으로, 알킬렌, 사이클로알킬렌, 아릴렌, 사이클로알카릴[0013]
렌, 알카릴렌, 아랄킬렌, 헤테로사이클릴렌, 헤테로아릴렌 또는 이들의 조합을 포함하고; n, m 및 k는 각각 독
립적으로 약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이다.
일 실시예에서, 상기 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물은 식(VIII')을 가진 제3 화합물을 추가[0014]
로 포함한다:
[0015]
상기 식에서, X 및 Y는 상이하고, X와 Y는 각각 독립적으로, 알킬렌, 사이클로알킬렌, 아릴렌, 사이클로알카릴[0016]
렌, 알카릴렌, 아랄킬렌, 헤테로사이클릴렌, 헤테로아릴렌 또는 이들의 조합을 포함하고; x, y 및 z는 각각 독
립적으로 약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물과 레조르시놀 수지간의 반응으로부터[0017]
얻을 수 있는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트를 개시한다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 2종 이상의 상이한 이소시아네이트 화합물과 레조르시놀 수지를 반응시키는 단계[0018]
를 포함하는, 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물의 제조 방법을 개시한다.
일 실시예에서, 상기 레조르시놀 수지는 식(V), 식(V') 또는 이들의 조합을 가진다:[0019]
[0020]
상기 식에서, n 및 n'은 약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이고; A, B, A' 및 B'는 각각 독립적으로[0021]
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말단기이다.
청구항 5의 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물에서, A, B, A' 및 B'는 각각 독립적으로 H, 식(V-[0022]
1) 또는 식(V-2)이다:
[0023]
또 다른 실시예에서, 상기 2종 이상의 이소시아네이트 화합물은 식 O=C=N-X-N=C=O 및 O=C=N-Y-N=C=O을 가지며,[0024]
여기서 X 및 Y는 상이하고, X 및 Y는 각각 독립적으로 알킬렌, 사이클로알킬렌, 아릴렌, 알카릴렌, 사이클로알
카릴렌, 아랄킬렌, 헤테로사이클릴렌, 헤테로아릴렌 또는 이들의 조합을 포함한다.
또 다른 실시예에서, X 및 Y는 각각 독립적으로 하기 식 중 하나를 가지는 2가의 라디칼이다:[0025]
[0026]
또 다른 실시예에서, 상기 방법은 용매의 부재 하에 일어난다.[0027]
또 다른 실시예에서, 상기 방법은 3-메틸-1-페닐-2-포스폴렌-1-옥사이드 또는 디부틸틴 디라우레이트일 수 있는[0028]
촉매의 존재 하에 일어난다.
또 다른 실시예에서, 상기 방법은 촉매의 부재 하에 일어난다.[0029]
또 다른 태양에서, 본 발명은 본 발명이 개시하는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 포함하는[0030]
고무상 물질, 메틸렌 공여체 및 메틸렌 수용체를 포함하는 가황가능한 고무 조성물을 개시한다.
일 실시예에서, 상기 고무상 물질은 천연 고무 또는 합성 고무이다.[0031]
또 다른 실시예에서, 상기 가황가능한 고무 조성물은, 경우에 따라서는 섬유, 필라멘트, 직물 또는 코드의 형태[0032]
로 되어 있을 수 있는 고무 보강재; 및/또는 폴리에스테르, 폴리아미드, 탄소, 유리, 강철, 폴리벤족사졸 또는
레이온으로 만들어질 수 있는 고무 보강재를 추가로 포함한다.
또 다른 실시예에서, 상기 가황가능한 고무 조성물은 가황제를 추가로 포함한다.[0033]
또 다른 실시예에서, 상기 가황가능한 고무 조성물은 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함하는데, 상기 첨가제는[0034]
카본 블랙, 산화아연, 실리카, 산화방지제, 스테아레이트, 가속화제(accelerator), 접착 촉진제, 코발트염, 스
테아르산, 충전재, 가소제, 왁스, 가공유, 지연제, 오존방지제 또는 이들의 조합일 수 있다.
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또 다른 태양에서, 본 발명은 청구항 1의 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 포함하는 침지 포[0035]
뮬레이션을 개시한다.
일 실시예에서, 상기 침지 포뮬레이션은 용매를 추가로 포함한다.[0036]
또 다른 실시예에서, 상기 침지 포뮬레이션은 경우에 따라서는 에폭시-함유 화합물, 증점제, 소포제 또는 이들[0037]
의 조합일 수 있는 첨가제를 추가로 포함한다.
또 다른 실시예에서, 상기 침지 포뮬레이션은 폴리(비닐피리딘/부타디엔/스티렌)라텍스를 추가로 포함한다.[0038]
또 다른 실시예에서, 상기 침지 포뮬레이션은 레조르시놀-포름알데히드 용액일 수 있는 수지 용액을 추가로 포[0039]
함한다.
또 다른 실시예에서, 상기 침지 포뮬레이션은 소포제일 수 있는 첨가제를 추가로 포함한다.[0040]
또 다른 태양에서, 본 발명은 여기에 개시된 침지 포뮬레이션으로 처리된 고무상 물질 및 고무 보강재를 포함하[0041]
는 제조 물품을 개시한다.
일 실시예에서, 상기 제조 물품에서의 고무상 물질은 천연 고무 또는 합성 고무이다.[0042]
또 다른 실시예에서, 상기 고무 보강재는, 경우에 따라서는 폴리에스테르, 폴리아미드, 탄소, 유리, 강철, 폴리[0043]
벤족사졸 또는 레이온으로 만들어질 수 있는, 섬유, 필라멘트, 직물 또는 코드의 형태로 되어 있다.
또 다른 실시예에서, 상기 제조 물품은 타이어, 동력 전달 벨트, 컨베이어 벨트, V-벨트, 호스 인쇄 롤, 고무[0044]
구두 뒤축, 고무 구두창, 자동차 바닥 매트, 트럭 흙받이판(mud flap) 또는 볼밀 라이너이다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 열, 방사선 또는 이들의 조합에 의해 식(B), (B'), (C) 또는 이들의 조합을 경화[0045]
시킴으로써 제조되는 수지를 포함하는 코팅을 개시한다:
[0046]
[0047]
상기 식에서, X는 알킬렌, 사이클로알킬렌, 아릴렌, 알카릴렌, 사이클로알카릴렌, 아랄킬렌, 헤테로사이클릴렌,[0048]
또는 이들의 조합이고; n 및 m은 각각 약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이다.
일 실시예에서, 상기 (B), (B'), (C) 또는 이들의 조합의 경화는 개시제의 존재 하에서 일어난다.[0049]
또 다른 태양에서, 본 발명은 디이소시아네이트, 폴리이소시아네이트 또는 이들의 조합과 함께 식(B), (D) 또는[0050]
이들의 조합을 경화시킴으로써 제조되는 수지를 포함하는 코팅을 개시한다:
[0051]
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상기 식에서, X는 알킬렌, 사이클로알킬렌, 아릴렌, 알카릴렌, 사이클로알카릴렌, 아랄킬렌, 헤테로사이클릴렌,[0052]
또는 이들의 조합이고; R은 알킬, 아릴, 아랄킬, 실록사닐, 실릴 에테르 또는 이들의 조합이고; n 및 m은 각각
약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이다.
또 다른 실시예에서, 여기에 개시된 상기 코팅은 경우에 따라서 충전재, 레올로지 개질제(rheology modifier),[0053]
증점제, 계면활성제, 습윤제, 가교결합제, 커플링제, 착색제, 윤활제, 레벨링제, 산화방지제, UV 안정화제, 가
소제 또는 이들의 조합일 수 있는 첨가제를 추가로 포함한다.
실 시 예
이하의 설명에서, 제시된 모든 숫자는 그와 관련되어 "약" 또는 "대략적인"이라는 용어의 사용 여부에 관계없이[0056]
대략적인 값이다. 모든 숫자는 1%, 2%, 5% 또는 경우에 따라서는 10∼20% 만큼 변동될 수 있다. 하한치 R
L
및
상한치 R
U
를 가진 수치 범위가 제시될 때는 항상, 그 범위에 포함되는 모든 숫자가 구체적으로 제시된다. 특히,
상기 범위 내에서 다음과 같은 숫자가 구체적으로 제시된다: R=R
L
k*(R
U
-R
L
), 여기서 k는 1% 내지 100% 범위에서
1% 증분의 변수로서, 예를 들면 k는 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, ..., 50%, 51%, 52%, ..., 95%, 96%, 97%, 98%, 99%,
또는 100%이다. 또한, 앞에서 정의된 2개의 R 숫자로 정의되는 모든 수치 범위도 구체적으로 제시된다.
일반적으로, 본 발명에서 개시되는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물은 고무 컴파운드에 대한[0057]
다양한 합성 섬유 물질의 접착성을 향상시킬 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상기 레조르시놀 수지-블록킹된 이소
시아네이트 조성물은 레조르시놀 수지를 2종 이상의 이소시아네이트 화합물과 반응시킴으로써 제조 또는 수득할
수 있다.
본 발명이 개시하는 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물을 제조하기 위해 이소시아네이트에 대해[0058]
반응성을 가진 임의의 레조르시놀 화합물이 사용될 수 있다. 상기 레조르시놀 수지는 하나 이상의 레조르시놀
화합물을 하나 이상의 알데히드와 반응시킴으로써 제조 또는 수득할 수 있다. 적합한 레조르시놀 수지의 몇 가
지 비제한적 예는 미국특허 제6,875,807호, 5,945,500호, 5,936,056호, 제5,075,414호, 제5,075,413호, 제
5,049,641호, 제5,030,692호, 제5,021,522호, 및 제4,889,891호; 미국 특허출원 제20040162391호, 제
20040147712호 및 제20040116592호; Raj B. Durairaj의 논문 "Resorcinol: Chemistry, Technology and
Applications," 제5장, 179∼261페이지(2005)에 기재되어 있으며, 상기 특허, 출원서 및 참고 서적은 원용에 의
해 본 명세서에 포함된다. 몇몇 실시예에서, 레조르시놀 수지는 노볼락 수지이다.
알데히드와 반응하여 레조르시놀 수지를 형성할 수 있는 임의의 레조르시놀 화합물이 사용될 수 있다. 적합한[0059]
레조르시놀 화합물의 몇 가지 비제한적 예는 Raj B. Durairaj의 논문 "Resorcinol: Chemistry, Technology and
Applications," 제1장-4장, 1∼175페이지(2005)에 기재되어 있으며, 상기 논문은 원용에 의해 본 명세서에 포함
된다. 몇몇 실시예에서, 레조르시놀 화합물은 식(I)을 가질 수 있다:
[0060]
상기 식에서, Ra, Rb, Rc 및 Rd는 각각 독립적으로, 수소; 하이드록시; 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드[0061]
및 요오다이드와 같은 할라이드; 니트로; 벤조; 카르복시; 포르밀, 알킬카르보닐(예컨대, 아세틸) 및 아릴카르
보닐(예컨대, 벤조일)과 같은 아실; 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 등과 같
은 알킬; 비치환 또는 치환된 비닐 및 알릴과 같은 알케닐: 비치환 또는 치환된 메타크릴레이트; 비치환 또는
치환된 아크릴레이드; 실릴 에테르; 실록사닐; 페닐 및 나프틸과 같은 아릴; 벤질과 같은 아랄킬; 또는 알킬페
닐과 같은 알카릴이고, 단, Ra, Rc 및 Rd 중 2개는 각각 H이다. 몇몇 실시예에서, 식(1)의 레조르시놀 화합물의
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 각각 H이다.
몇몇 실시예에서, 식(I)의 레조르시놀 화합물은 작용화되지 않는다. 즉, 식(I)의 레조르시놀 화합물의 Ra, Rb,[0062]
Rc 및 Rd는 각각 H이다. 일반적으로, 계속해서 이소시아네이트와 반응하는 레조르시놀 수지를 제조하기 위해 작
용화되지 않은 레조르시놀 화합물을 사용할 경우, 작용화되지 않은 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트를
얻을 수 있다. 다른 실시예에서, 식(I)의 레조르시놀 화합물은 작용화되고, 이때 Ra, Rb, Rc 및 Rd 중 하나 이
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상은, 하이드록시; 플루오라이드, 클로라이드, 브로마이드 및 요오다이드와 같은 할라이드; 니트로; 벤조; 카르
복시; 포르밀, 알킬카르보닐(예컨대, 아세틸) 및 아릴카르보닐(예컨대, 벤조일)과 같은 아실; 메틸, 에틸, 프로
필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실 등과 같은 알킬; 비치환 또는 치환된 비닐 및 알릴과 같은 알케
닐: 비치환 또는 치환된 메타크릴레이트; 비치환 또는 치환된 아크릴레이드; 실릴 에테르; 실록사닐; 페닐 및
나프틸과 같은 아릴; 벤질과 같은 아랄킬; 또는 알킬페닐과 같은 알카릴과 같은 작용기이다. 일반적으로, 계속
해서 이소시아네이트와 반응하는 레조르시놀 수지를 제조하기 위해 작용화된 레조르시놀 화합물을 사용할 경우,
작용화된 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트를 얻을 수 있다.
작용화된 레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트는, 폴리우레탄 및 폴리우레아 응용과 같은 고무 및 비-고무[0063]
응용 모두에서의 경화제로서 사용될 수 있다. 또한, 뒤에 설명하는 바와 같이, 작용화된 레조르시놀 수지-블록
킹된 이소시아네이트는 또한, 코팅 응용과 같은 다양한 응용분야에 사용되는, 작용화된 메타크릴레이트, 아크릴
레이트, 알케닐(예; 비닐 및 알릴계), 알킬, 아릴, 아랄킬, 실록사닐, 및 실릴 에테르 화합물과 같은 작용화 유
도체를 제조하는 데 사용될 수 있다.
레조르시놀 화합물의 몇 가지 제한되지 않는 적합한 예로는, 레조르시놀과 같은 비-작용화 레조르시놀 화합물;[0064]
및 오르시놀, 2-메틸레조르시놀, 플로로글루시놀, 1,2,4-벤젠트리올, 피로갈롤, 3,5-디하이드록시벤즈알데히드,
2,4-디하이드록시벤즈알데히드, 4-에틸레조르시놀, 2,5-디메틸레조르시놀, 5-메틸벤젠-1,2,3-트리올, 3,5-디하
이드록시벤질 알코올, 2,4,6-트리하이드록시톨루엔, 4-클로로레조르시놀, 2',6'-디하이드록시아세토페논,
2',4'-디하이드록시아세토페논, 3',5'-디하이드록시아세토페논, 2,4,5-트리하이드록시벤즈알데히드, 2,3,4-트리
하이드록시벤즈알데히드, 2,4,6-트리하이드록시벤즈알데히드, 3,5-디하이드록시벤조산,
2,4-디하이드록시벤조산, 2,6-디하이드록시벤조산, 1,3-디하이드록시나프탈렌,
2',4'-디하이드록시프로피오페논, 2',4'-디하이드록시-6'-메틸아세토페논, 1-(2,6-디하이드록시-3-메틸페닐)에
타논, 3-메틸 3,5-디하이드록시벤조에이트, 메틸 2,4-디하이드록시벤조에이트, 갈아세토페논, 2,4-디하이드록시
-3-메틸벤조산, 2,6-디하이드록시-4-메틸벤조산, 메틸 2,6-디하이드록시벤조에이트,
2-메틸-4-니트로레조르시놀, 2,4,5-트리하이드록시벤조산, 3,4,5-트리하이드록시벤조산, 2,3,4-트리하이드록시
벤조산, 2,4,6-트리하이드록시벤조산, 2-니트로플로로글루시놀 또는 이들의 조합이 포함된다. 몇몇
실시예에서, 레조르시놀 화합물은, 레조르시놀, 오르시놀, 2-메틸레조르시놀, 플로로글루시놀, 1,2,4-벤젠트리
올, 피로갈롤, 3,5-디하이드록시벤즈알데히드, 2,4-디하이드록시벤즈알데히드, 4-에틸레조르시놀, 4-클로로레조
르시놀 또는 이들의 조합이다. 또 다른 실시예에서, 레조르시놀 화합물은 레조르시놀이다.
레조르시놀 수지-블록킹된 디이소시아네이트를 형성하기 위해 디이소시아네이트와 반응하는 데 있어서, 레조르[0065]
시놀 수지는 선택적으로, 페놀 화합물(예컨대, 페놀, p-클로로페놀, o-니트로페놀 및 m-크레졸), 알코올, 옥심,
베타-디카르보닐 화합물(예컨대, 디에틸 말로네이트, 에틸 아세토아세테이트, 아세틸 아세톤, 및 말로노니트
릴), 락탐(예컨대, 카프로락탐), 메르캅탄, 아민, 카르바메이트, 아미드, 이민, 카르복시산, 이미다졸(예컨대,
벤즈이미다졸, 2-페닐이미다졸) 등과 같은 적어도 또 하나의 이소시아네이트 블록킹제로 부분적 또는 완전 대체
될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 레조르시놀 수지는 카프로락탐, 페놀 화합물 또는 이들의 조합으로 부분적 또는
완전 대체된다. 또 다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 식(IA)을 가진 페놀 화합물로 부분적으로 또는 완전히
대체된다:
[0066]
상기 식(IA)의 페놀 화합물의 Ra, Rb, Rc, Rd 및 Re는 각각 독립적으로, 수소; 하이드록시; 플루오라이드, 클로라[0067]
이드, 브로마이드 및 요오다이드와 같은 할라이드; 니트로; 벤조; 카르복시; 포르밀, 알킬카르보닐(예컨대, 아
세틸) 및 아릴카르보닐(예컨대, 벤조일)과 같은 아실; 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노
닐, 데실, 등과 같은 알킬; 페닐 및 나프틸과 같은 아릴; 벤질과 같은 아랄킬; 또는 알킬페닐과 같은 알카릴이
다. 다른 실시예에서, 상기 식(IA)의 페놀 화합물의 Ra, Rb, Rc, Rd 및 Re는 각각 독립적으로, H, 할라이드, 또
는 알킬이다. 특별한 실시예에서, 상기 식(IA)의 페놀 화합물의 Ra, Rb, Rc, Rd 및 Re는 각각 H이다. 몇 가지
블록킹제가 개시된 참고문헌으로 Zeno W. Wickers, Jr,. "Blocked Isocynates," Progress in Organic
Coatings, 3권, 73-79쪽(1973)이 있으며, 그 내용은 원용에 의해 본 명세서에 포함된다. 또한 몇 가지 블록킹
제가 미국 특허 제6,509,433호; 제6,368,669호; 제6,242,530호; 제6,063,860호; 제5,986,033호;
등록특허 10-1428602
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제5,352,755호; 제5,246,557호; 제4,976,837호; 및 제3,987,033호에 개시되어 있고, 이들 문헌은 원용에 의해
본 명세서에 포함된다.
레조르시놀 수지 대 상기 적어도 또 하나의 이소시아네이트 블록킹제의 비는 중량 기준으로 약 1:99 내지 약[0068]
99:1, 또는 당업자가 인지하는 임의의 다른 비일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 레조르시놀 수지 대 상기 적어도
또 하나의 이소시아네이트 블록킹제의 몰비는 중량 기준으로 약 5:95 내지 약 95:5, 약 10:90 내지 약 90:10,
약 15:85 내지 약 85:15, 약 20:80 내지 약 80:20, 약 25:75 내지 약 75:25, 약 70:30 내지 약 30:70, 약
40:60 내지 약 60:40 또는 약 50:50이다. 다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 적어도 또 하나의 이소시아네이
트 블록킹제로 완전히 대체된다. 또 다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 또 하나의 이소시아네이트 블록킹제
로 대체되지 않는다.
본 발명에 개시된 레조르시놀 화합물과 반응할 수 있는 임의의 알데히드를 사용하여 레조르시놀 수지를 형성할[0069]
수 있다. 몇몇 실시예에서, 상기 알데히드 화합물은 식 R-CHO를 가질 수 있고, 여기서 R은 H, 알킬, 알케닐,
사이클로알킬, 아릴, 헤테로아릴, 헤테로사이클릴 또는 이들의 조합일 수 있고, 예를 들면 알카릴 및 아랄킬일
수 있다. 적합한 알데히드의 몇 가지 비제한적 예는 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 부티르
알데히드, 이소부티르알데히드, 발레르알데히드, 크로톤알데히드, 벤즈알데히드, 푸르푸랄 및 이들의 조합을 포
함한다.
경우에 따라서는, 경화되거나 경화되지 않은 레조르시놀 수지의 기계적, 화학적 및/또는 물리적 성질을 조절하[0070]
기 위해 레조르시놀 화합물 및 알데히드를 함유하는 반응 혼합물에 하나 이상의 개질제를 첨가할 수 있다. 적
합한 개질제의 몇 가지 비제한적 예로는 스티렌과 같은 비닐 화합물, 불포화 하이드록시 화합물, 불포화 지방족
알데히드 화합물, 지방족 디알데히드 화합물, 실란 및 이들의 조합이 포함된다.
레조르시놀 수지를 개질하는 데 적합한 불포화 하이드록시 화합물의 몇 가지 비제한적 예는 식(II)으로 나타내[0071]
어지는 레조르시놀 수지이다:
[0072]
상기 식에서, Re, Rf 및 Rg는 각각 독립적으로, 수소, 하이드록실, 또는 하이드로카르빌기이되, Re, Rf 및 Rg 중[0073]
하나는 수소이다. 몇몇 실시예에서, Re, Rf 및 Rg는 각각 독립적으로, -H, -CH3, -C2H5, -C3H7, -C4H9, -C5H11,
-C6H13, -OH, -CH2OH, -CH3CH2OH이다. 또 다른 실시예에서, Re 및 Rg는 각각 수소이고, Rf는 하나의 수소가 -OH기
로 치환된 C1∼C5의 알킬이다. 몇몇 실시예에서, 상기 지방족 불포화 하이드록시 화합물은 1,4-디하이드록시-
2-부텐, 1,4-디하이드록시-2-펜텐, 1,4-디하이드록시-2-헥센, 1,4-디하이드록시-2-헵텐, 1,4-디하이드록시-2-옥
텐, 1,5-디하이드록시-2-펜텐, 1,6-디하이드록시-2-헥센, 1,7-디하이드록시-2-헵텐, 1,8-디하이드록시-2-옥텐
또는 이들의 조합이다.
레조르시놀 수지를 개질하는 데 적합한 불포화 지방족 알데히드 화합물의 몇 가지 비제한적 예는 식(III)으로[0074]
나타내어지는 레조르시놀 수지이다:
[0075]
상기 식에서, Ri, Rh 및 Rj는 각각 독립적으로 수소 또는 하이드로카르빌기이다. 몇몇 실시예에서, 상기 하이드[0076]
로카르빌기는 지방족 직쇄형 또는 분지형 알킬이다. 다른 실시예에서, Ri, Rh 및 Rj는 각각 독립적으로, -H,
-CH3, -C2H5, -C3H7, -C4H9, -C5H11, -C6H13이다. 또 다른 실시예에서, Rj는 수소 또는 직쇄형 또는 분지형 C1-C5
알킬이다. 몇몇 실시예에서, 상기 불포화 지방족 알데히드 화합물은 크로톤알데히드, 아크롤레인, 메타크롤레
인, 또는 이들의 조합이다.
레조르시놀 수지를 개질하는 데 적합한 지방족 디알데히드 화합물의 몇몇 비제한적 예는 식(IV)으로 나타내어진[0077]
다:
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O=HC-(CH2)n-CH=O (IV)[0078]
상기 식에서, n은 1 이상이다. 몇몇 실시예에서, n은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 및 10이다. 다른 실시예에[0079]
서, n은 1, 2, 3, 4, 및 5이다. 또 다른 실시예에서, 상기 지방족 디알데히드 화합물은 말론알데히드, 숙신알
데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드 또는 이들의 조합이다.
레조르시놀 수지를 개질하는 데 적합한 실란의 몇 가지 비제한적 예는, 제한되지 않지만, 3-(아미노프로필)트리[0080]
에톡시실란, 3-(이소시아네이토프로필)트리에톡시실란, 3-(글리시독시프로필)트리메톡시실란, 3-(메르캅토프로
필)트리메톡시실란, N-베타-아미노에틸-3-(아미노프로필)트리메톡시실란, 3-(아미노프로필)트리메톡시실란, 3-
(아미노에틸)트리에톡시실란, 3-(글리시딜옥시에틸)트리에톡시실란, 3-(메르캅토프로필)트리에톡시실란, N-베타
-아미노에틱-3-(아미노에틸)-트리메톡시실란, 3-(아미노부틸)트리에톡시실란, 3-(아미노에틸)트리메톡시실란,
3-(아미노프로필)메틸디에톡시실란, N-(3-(트리에톡시실릴)프로필)우레아, 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)디
설파이드, 3,3'-비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)테트라설파이드,
2,2'-비스(트리에톡시실릴에틸)테트라설파이드, 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)트리설파이드, 3,3'-비스(트리
에톡시실릴프로필)트리설파이드, 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로필)헥사설파이드, 3,3'-비스(트리메톡시실릴프로
필)옥타설파이드, 3,3'-비스(트리옥톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3,3'-비스(트리헥속시실릴프로필)디설파이
드, 비스-실릴-아미노실란, 비닐메틸디에톡시실란, 비닐메틸디메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리부톡시
실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리이소프로펜옥시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리펜옥시실란, 비닐
트리스(2-메톡시에톡시)실란, 비닐디메틸에톡시실란 및 이들의 조합을 포함한다.
몇몇 실시예에서, 레조르시놀 수지는 레조르시놀 화합물과 알데히드를 포함하는 반응 혼합물로부터 제조된다.[0081]
다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 레조르시놀과 포름알데히드를 포함하는 반응 혼합물로부터 제조된다. 또
다른 실시예에서, 레조르시놀-포름알데히드 반응은 하나 이상의 개질제의 존재 하에서 일어난다. 특별한 실시
예에서, 레조르시놀-포름알데히드 반응은 레조르시놀 대 포름알데히드의 몰비가 약 1 이상 대 1, 약 1.05 이상
대 1, 약 1.1 이상 대 1, 약 1.2 이상 대 1, 약 1.3 이상 대 1, 약 1.4 이상 대 1, 또는 약 1.5 이상 대 1인
상태에서 일어난다. 또 다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 식(V), (V') 또는 이들의 조합을 가질 수 있다:
[0082]
상기 식에서, n 및 n'는 각각 약 1 내지 약 100의 평균을 가진 정수의 분포이고; A, B, A' 및 B'는 각각 독립적[0083]
으로 말단기이다.
일반적으로, n 또는 n' 값의 분포 및 평균은 출발 물질의 몰비; 반응 시간 및 온도; 사슬 종결제, 산 촉매 또는[0084]
염기 촉매의 존재 또는 부재; 중합 조건 등과 같은 다양한 인자에 의존한다. n 또는 n'에 의해 특정되는 중합
의 정도는 얻어지는 레조르시놀 수지의 성질에 영향을 줄 수 있다. 몇몇 실시예에서, n 또는 n'의 평균은 약 1
로부터 약 100까지 변동된다. 다른 관심을 끄는 실시예에서, n 또는 n'의 평균은 약 1로부터 약 50까지 변동된
다. 또 다른 실시예에서, n의 평균은 약 1로부터 약 10까지 변동된다. 또 다른 실시예에서, n'의 평균은 약 1
로부터 약 20까지 변동된다. 당업자는 n 또는 n'의 평균의 부가적 범위를 고려할 수 있음을 인식할 것이고, 이
는 본 발명의 개시에 포함된다. 또한, 레조르시놀 수지(V) 또는 (V')의 존재는 레조르시놀 수지 내에 모든 미
반응 모노머(들)(즉, 레조르시놀 화합물(들), 알데히드(들) 및/또는 개질제(들))의 존재를 배제하는 것은 아니
지만, 미반응 알데히드(들) 또는 다른 개질제(들)의 농도는 지극히 낮거나 검출되지 않는 수준은 아니더라도 일
반적으로 낮다.
말단기 A, B, A' 및 B'는 출발 물질의 몰비; 사슬 종결제, 산 촉매 또는 염기 촉매의 존재 또는 부재; 중합 단[0085]
계 종료 시점의 레조르시놀-알데히드 중합 공정의 상태 등과 같은 여러 가지 인자에 따라 폴리머 단위간에 변동
될 수 있다. 몇몇 실시예에서, A, B, A' 및 B'는각각 독립적으로 H, 또는 식(V-1) 또는 (V-2)를 가진다:
[0086]
몇몇 실시예에서, 레조르시놀 수지는 식(V)을 가지며, 여기서 A는 H이고; B는 식(V-1)을 가지고; n은 약 1 내지[0087]
등록특허 10-1428602
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약 10의 평균을 가진 정수의 분포이다. 다른 실시예에서, 레조르시놀 수지는 식(V')을 가지며, 여기서 A'는 H
이고; B'는 식(V-1)을 가지고; n은 약 1 내지 약 20의 평균을 가진 정수의 분포이다.
몇몇 실시예에서, 식(V) 또는 (V')의 페닐환은 선택적으로, 제한되지는 않지만, 알킬, 아릴, 알카릴, 사이클로[0088]
알카릴, 아랄킬, 알케닐, 알키닐, 아실, 카르복시, 헤테로사이클릴, 할라이드, 니트로, 하이드록시 등을 포함하
는 하나 이상의 치환제를 포함한다. 다른 실시예에서, 식(V) 또는 (V')의 메틸렌기는 선택적으로, 제한되지는
않지만, 알킬, 아릴, 알카릴, 사이클로알카릴, 아랄킬, 알케닐, 알키닐, 헤테로사이클릴 등을 포함하는 하나 또
는 2개의 치환제를 포함한다.
레조르시놀 수지-블록킹된 이소시아네이트 조성물의 제조용으로는 하이드록시 화합물과 반응할 수 있는 임의의[0089]
이소시아네이트 화합물이 사용될 수 있다. 적합한 이소시아네이트 화합물의 비제한적 적합한 예로는, 알킬 이
소시아네이트(예컨대, 메틸 이소시아네이트 및 에틸 이소시아네이트), 사이클로알킬 이소시아네이트(예컨대, 사
이클로프로필 이소시아네이트, 사이클로부틸 이소시아네이트, 사이클로펜틸 이소시아네이트, 사이클로헥실 이소
시아네이트, 및 트랜스-4-메틸사이클로헥실 이소시아네이트), 아릴 이소시아네이트(예컨대, 페닐 이소시아네이
트, 4-클로로페닐 이소시아네이트, 2,4-디플루오로페닐 이소시아네이트, 2,6-디메틸페닐 이소시아네이트, 2,6-
디이소프로필페닐 이소시아네이트, 톨릴 이소시아네이트, 및 나프틸 이소시아네이트), 아랄킬 이소시아네이트
(예컨대, 메틸벤질 이소시아네이트), 불포화 이소시아네이트, 할로겐화 알킬 및 아릴 이소시아네이트, 카르보닐
티오카르보닐 및 이미도일 이소시아네이트, 이소시아네이트 황, 인 이소시아네이트 인, 및 무기 이소시아네이트
와 같은 모노이소시아네이트; 지방족 디이소시아네이트 및 방향족 디이소시아네이트와 같은 디이소시아네이트;
4,4',4"-트리페닐메탄 트리이소시아네이트(예컨대, 팬실베이니어주 피츠버그 소재 Bayer MaterialScience사의
DESMODUR
®
R), 트리스-(4-이소시아네이토페닐)티오포스페이트(예컨대, Bayer MaterialScience사의 DESMODUR
®
RF) 및 헥사메틸렌 디이소시아네이트의 뷰렛(예컨대, Bayer MaterialScience사의 DESMODUR
®
N)과 같은 트리이
소시아네이트; 및 Bayer MaterialScience사의 MONDUR
®
MRS, MONDUR
®
MR Light, MONDUR
®
MRS 2, MONDUR
®
MRS
4, MONDUR
®
MRS 5, BAYHYDUR
®
, BAYMIDUR
®
및 DESMODUR
®
폴리이소시아네이트와 같은 다른 폴리이소시아네이트
및 뉴저지주 크랜버리 소재 Rhodia사의 폴리이소시아네이트 TOLONATE
®
X C3가 포함된다. 몇몇 실시예에서, 상
기 폴리이소시아네이트는 MDI계 폴리이소시아네이트(PMDI)로서 MONDUR
®
MRS, MONDUR
®
MR Light, MONDUR
®
MRS
2, MONDUR
®
MRS 4 및 MONDUR
®
MRS 5를 포함한다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 몇 가지 이소시아네이트는
Henri Ulrich, "Chemistry and Technology of Isocynates," John Wiley